З 18.12.23 магазин в м.Дніпро за адресою вул.Новокримська 58 не працює.
Однак, наш інтернет-магазин відкритий для вас 24/7.
Усі місцеві замовлення можуть бути відправлені кур'єрськими службами.
Web Speech API не поддерживается этим браузером. Установите Google Chrome.
Голосовой ввод также работает в Safari, Яндексе, мобильных браузерах Huawei, Opera и Samsung..
Применяется для производства печатных плат, обработки деталей оксидированием, в процессе омеднения, матирования стекла, никелирования и т.д.
Применение:
1.Способ. На подготовленную (зачищенную, обезжиренную) плату наносим тонкий слой маски сквозь трафарет, формируя защищенные и открытые участки платы.
(Аналогично шелкографии).
Экспонируем светом ультрафиолетовой лампы (светодиодов, прямого солнечного света) до застывания.
2.Способ.
На подготовленную (зачищенную, обезжиренную) плату наносим маску в виде одной большой капли (объем подбирается экспериментально, лишнее вытечет )
Накрываем лавсановой пленкой (второй отделяемый слой от пленочного фоторезиста), сверху фотошаблон, например, распечатанный на принтере.
Придавливаем сверху стеклом, выравниваем толщину маски, ориентируясь по цвету маски ( чем толще - тем темнее).
Фиксируем, чтобы фотошаблон не двигался относительно платы, Экспонируем ультрафиолетом. Время подбираем экспериментально, оно зависит от толщины стекла, плотности фотошаблона, мощности лампы, расстояния от лампы до платы, температуры и т.д.
Открытые участки затвердеют, затемненные участки останутся в пастообразном состоянии, незастывшая маска удаляется при помощи тампона с изопропиловым спиртом, нитрорастворителя, сольвента и т.д. После удаления незастывших участков плату рекомендуется дополнительно "задубить" - подержать некоторое время без защитных пленок, трафаретов, непосредственно в лучах ультрафиолетового света.
Оставьте свой отзыв или задайте вопрос
Здесь обсуждается только этот товар. Комментарии не по теме будут удалены! Пожалуйста, соблюдайте Правила комментирования.
Опробован альтернативный способ. Рекомендую. Наносим тонкий слой фоторезиста (сетка, валик и т.п). Высушиваем в любом затемненном месте при температуре 60...70 градусов в течение 15...20 мин. Далее работаем как с пленочным фоторезистом (засветка, проявка в щелочи, травление).
Данные, представленные в описании товара являются справочными и могут отличаться от указанных производителем.
Для проведения технических расчетов и получения точных параметров товара используйте даташиты с сайта производителя.
Если Вам нужна дополнительная информация, или вы обнаружили в описании ошибку, или есть другие вопросы по этому товару, то Вам поможет Ярослав
unknown
Данные, представленные в описании товара являются справочными и могут отличаться от указанных производителем.
